產(chǎn)品
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- E2M系列雙級旋片泵
- nES系列單級旋片泵
- ES系列單級旋片泵
- nXDS系列干式渦旋泵
- nXLi系列干式真空泵
- EDC系列爪式真空泵
- EOSi系列噴油螺桿泵
- EH系列羅茨真空泵
- EDS系列干式螺桿泵
- GXS系列干式螺桿泵
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- T-Station渦輪分子泵小車
- STP系列渦輪分子泵
- Stokes滑閥泵
- Stokes 6羅茨泵
- D-LAB系列隔膜真空泵
- nEXPT系列分子泵站
- nEXT系列渦輪分子泵
- EDP系列化工爪式干泵
- CXS系列化工螺桿真空泵
- CDX系列化工螺桿真空泵
- HT系列油蒸汽擴散泵
- iH系列半導體真空干泵
- iXH系列半導體真空泵
- iXL系列半導體真空干泵
- EPX系列半導體真空干泵
- GX系列半導體干式泵
產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
STP603 ISO160F Edwards渦輪分子泵是的渦輪分子泵，可用于的半導體應用。
STP603 ISO160F Edwards渦輪分子泵是Edwards 的轉(zhuǎn)子可實現(xiàn)的性能，大的制程靈活性。這種泵已經(jīng)由半導體和磁介質(zhì)行業(yè)的大型設(shè)備制造商投入使用，并得到了。
詳情介紹：
概述
Edwards STP603 是的渦輪分子泵，可用于的半導體應用。Edwards 的轉(zhuǎn)子可實現(xiàn)的性能，大的制程靈活性。這種泵已經(jīng)由半導體和磁介質(zhì)行業(yè)的大型設(shè)備制造商投入使用，并得到了。
應用
金屬（鋁）、鎢和電介質(zhì)（氧化物）以及多晶硅等離子刻蝕（氯化物、氟化物和溴化物）
電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
濺射
離子注入源，射束線泵送端點站
MBE
擴散
光致抗蝕劑脫模
晶體/晶膜生長
晶片檢查
負載鎖真空腔
科學儀器：表面分析、質(zhì)譜分析、電子顯微鏡
高能物理：射束線、加速器
放射線應用：融合系統(tǒng)、回旋
功能和優(yōu)勢
的轉(zhuǎn)子
大的制程靈活性
無油
低振動
高度
免維護
的控制器設(shè)計
自動調(diào)整
自行診斷功能
直流電機驅(qū)動
無電池運行
緊湊型設(shè)計
占地面積小
Edwards STP603 是的渦輪分子泵，可用于的半導體應用。Edwards 的轉(zhuǎn)子可實現(xiàn)的性能，大的制程靈活性。這種泵已經(jīng)由半導體和磁介質(zhì)行業(yè)的大型設(shè)備制造商投入使用，并得到了。
應用
金屬（鋁）、鎢和電介質(zhì)（氧化物）以及多晶硅等離子刻蝕（氯化物、氟化物和溴化物）
電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
濺射
離子注入源，射束線泵送端點站
MBE
擴散
光致抗蝕劑脫模
晶體/晶膜生長
晶片檢查
負載鎖真空腔
科學儀器：表面分析、質(zhì)譜分析、電子顯微鏡
高能物理：射束線、加速器
放射線應用：融合系統(tǒng)、回旋
功能和優(yōu)勢
的轉(zhuǎn)子
大的制程靈活性
無油
低振動
高度
免維護
的控制器設(shè)計
自動調(diào)整
自行診斷功能
直流電機驅(qū)動
無電池運行
緊湊型設(shè)計
占地面積小
半機架控制器
數(shù)據(jù)
| 入口法蘭 | ISO160F |
| KF40 | |
| 抽速 |
|
| N2 | 650 ls-1 |
| H2 | 550 ls-1 |
| 壓縮比 |
|
| N2 | >108 |
| H2 | >105 |
| 加熱時的極限壓力（VG/ISO 法蘭） | 6.5 x 10-6 Pa |
|
|
(5 x 10-8 Torr) |
| 加熱時的極限壓力（ICF 法蘭） | 10-7 Pa |
|
|
(10-9 Torr) |
| 大連續(xù)壓力 | 13 Pa (0.1 Torr) |
| 額定速度 | 35000 rpm |
| 啟動時間 | 6 分鐘 |
| 高入口法蘭溫度 | 120 °C |
| 輸入電壓 | 100 至 120 (± 10) V 交流或 |
|
|
200 至 240 (± 10) V 交流 |
| 啟動時的功耗 | 0.8 kVA |
| 泵重量 | 31 kg |
| 控制器重量 | 9 kg |
